华为光刻技术专利曝光, “中国芯”要来了!
发布时间:2020-07-21 来源:安徽猎标企服 浏览次数:随着贸易战的持续升温,美国最终将“战场”延伸到了科技行业最核心的领域—半导体。美国态度很明显,试图通过半导体来遏制中国科技的迅猛发展。2019年底,在美国的干预下,光刻机巨头ASML停止向中芯国际提供EUV光刻机,今年5月份,美国宣布对加大对华为半导体的制裁,禁止所有采用美国技术的半导体企业对华为提供代工服务,导致台积电不得不中断与华为之间的合作。

虽然半导体设计的难度要高于半导体制造,但半导体领域的核心却是制造半导体的工具“光刻机”,虽然华为在芯片设计领域遥遥领先,但芯片制造却是华为的“短板”!华为既然在系统、半导体方面都有备用“备胎”,难道在半导体制造方面就没有准备?并不是!

在体质方面,虽然华为是私营企业,但背靠祖国,在全球开疆拓土,招兵买马,能做得了许多半导体企业做不了的事,比如这次曝光的光刻技术专利,发明人是“外国友人”,弗洛里安·朗诺斯。
在规模方面,美国号称是“老二收割机”,在日本、德国等企业能对美国科技产生威胁的时候,都被美国以各种理由收拾,然而,日本、德国等这些国家的人口都没有美国多,而中国人口则是美国人口的4倍,并且中国更是芯片消耗大国,14亿人口,在这里完全体现出来了优势。
在人才方面,更是因为有了中国14亿人口,才有了人才优势,更因为有美国不敢想象的“996”式的狼性文化,华为的光刻机才大有可能落地!
总而言之,美国的制裁,唤醒了华为乃至国内半导体企业加速的步伐,我们应该给这些半导体企业一点耐心和关注,每一次时代的革新,总有一些企业没落,也有一些企业脱颖而出,我们站在民族觉醒的风口期,相信未来两年,“中国芯”一定会完成“蜕变”!而我们也一定是见证者!
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